目录

第一章 薄膜材料

§1.1 薄膜材料的特性

§1.2 薄膜制备方法的分类及特点

§1.3 薄膜制备方法和制备条件的选择

§1.4 薄膜的物性测量方法

第二章 真空蒸镀方法

§2.1 蒸发过程

§2.2 成核过程

§2.3 薄膜的形成

§2.4 蒸发源

§2.5 特殊的蒸发技术

§2.6 真空蒸镀装置

§2.7 合金和化合物薄膜的真空蒸镀

§3.1 溅射率

第三章 溅射沉积方法

§3.2 溅射机理

§3.3 溅射粒子

§3.4 放电特性

§3.5 溅射装置

§3.6 溅射法的特点

§3.7 氧化物薄膜的制备

§3.8 氮化物、碳化物及硅化物薄膜的制备

§3.9 非晶薄膜和其他薄膜的制备

第四章 化学气相沉积方法（CVD方法）

§4.1 基本原理

§4.2 CVD装置

§4.3 薄膜材料的CVD生长

第五章 等离子体化学气相沉积（PCVD）方法和等离子

体氧化方法

§5.1 PCVD方法的基本原理

§5.2 PCVD装置

§5.3 用PCVD方法制备的薄膜材料

§5.4 等离子体氧化

§5.5 等离子体氧化装置

§5.6 等离子体氧化膜

第六章 电解镀和无电解镀方法

§6.1 电解镀的方法

§6.2 无电解镀方法

§6.3 阳极氧化方法

第七章 膜厚检测方法

§7.1 天平法

§7.2 电学方法

§7.3 光学方法

§7.4 辐射吸收法和辐射发射法

第八章 薄膜材料在电磁学领域中的应用

§8.1 导电薄膜的应用

§8.2 半导体薄膜的应用

§8.3 介电体薄膜的应用

§8.4 超导薄膜的应用

§8.5 磁性薄膜的应用

第九章 薄膜材料在光学和机械领域中的应用

§9.1 光学膜

§9.2 薄膜光波导元件

§9.3 光功能元件

§9.4 表面保护膜和润滑膜

附录一 薄膜材料的种类和用途

附录二 薄膜的制备方法和特点

附录三 化合物薄膜的种类和制备方法

附录四 耐热材料

附录五 固体及液体元素的熔解和蒸发数据

附录六 化合物的蒸气压、熔点和蒸气成分

附录七 元素周期表

主要参考书