第一章 X射线衍射的动力学理论

1.1 引言

1.2 晶体中的波动方程

1.3 波动方程的平面波解

1.4 双光束近似与色散面

1.5 双光束的波场

1.6 吸收，Borrmann效应与坡印廷矢量

1.7 动力学衍射的普遍理论——高木方程组

1.8 用Riemann函数求解满足高木方程的波场

1.9 射线光学理论

1.10 量子理论

参考文献

第二章 X射线衍衬成象理论

2.1 电子射线与X射线衍衬象的对比

2.2 完整晶体的衍衬成象分析

2.3 晶体中层错的X射线衍衬象分析

2.4 其它面缺陷的X射线衍衬象分析

2.5 晶体具有等应变梯度时的衍衬象分析

2.6 晶体中位错的X射线衍衬象分析

参考文献

附录A 布喇格情况下的衍射振幅与强度分布的推导

附录B 多色辐射的X射线积分强度表达式

附录C 在有USG晶体中位移场二次式中A、B、C的形式

附录D 关于合流超几何函数及其渐近表达式

第三章 X射线衍衬貌相学的实验技术

3.1 X射线貌相术的衍射几何和分类

3.2 X射线衍衬貌相学的主要实验方法

3.3 衍衬象的分辨率问题

3.4 X射线貌相术的各种改进型式

3.5 实验技术

参考文献

第四章 X射线双晶衍射仪

4.1 X射线双晶衍射仪的几何原理

4.2 双晶衍射仪的反射能力和反射系数

4.3 完整晶体和不完整晶体的积分反射

4.4 双晶反射及摆动曲线的半峰宽

4.5 晶体中动力学波场的示证

4.6 双晶衍射仪的构造及调试

4.7 双晶貌相术

4.8 晶体中应变及弯曲的双晶衍射仪测量方法

4.9 点阵常数精确测定的双晶衍射仪方法

参考文献

第五章 X射线干涉仪

5.1 X射线干涉仪的原理

5.2 X射线干涉仪的型式

5.3 X射线三晶干涉仪中波场的传播

5.4 X射线干涉仪的应用

参考文献

第六章 貌相图中缺陷象的分析

6.1 引言

6.2 点缺陷——微缺陷

6.3 线缺陷——位错

6.4 面缺陷——二维缺陷

6.5 体缺陷——三维缺陷

参考文献

第七章 在半导体晶体和器件工艺中的应用

7.1 引言

7.2 近完整半导体单晶生长过程的观察与分析

7.3 无位错单晶中的微缺陷

7.4 硅单晶中的氢致缺陷

7.5 杂质的沉淀和偏析

7.6 在晶片切磨抛工艺中的应用

7.7 晶片弯曲度的测量

7.8 器件工艺诱生缺陷的观察和器件质量的控制

7.9 在外延工艺中的应用

7.10 扩散的双晶摆动曲线研究

7.11 多晶隔离的检查

7.12 晶片表面薄膜引起的应变

7.13 离子注入的研究

参考文献

第八章 在其它晶体研究中的应用

8.1 引言

8.2 氟化锂（LiF）光学晶体

8.3 铁硅合金（Fe-Si）及其它金属晶体

8.4 铌酸锂（LiNbO3）和其它氧化物铁电体单晶

8.5 钆镓石榴石（GGG）基片及其外延薄膜

8.6 钇铝石榴石（YAG）晶体

8.7 磷酸二氢钾（KDP）和D-KDP晶体

8.8 水晶（α-石英）和α-碘酸锂（α-LiIO3）晶体

8.9 钇铁石榴石（YIG），铽铁石榴石（TbIG）和其它熔盐法生长的晶体

8.10 金刚石

8.11 有机晶体

参考文献

附录（一） 常见的人工晶体和天然晶体的质量吸收系数和临界穿透行程

附录（二） 几种常用晶体的布喇格角θB（度）

附录（三） 核乳胶底板的处理方法

索引