第一章 真空技术基础

1.1真空基础

1.1.1真空的定义及其度量单位

1.1.2真空的分类

1.1.3气体与蒸气

1.2稀薄气体的性质

1.2.1理想气体定律

1.2.2气体分子的速度分布

1.2.3平均自由程

1.2.4碰撞次数与余弦散射定律

1.2.5真空在薄膜制备中的作用

1.3真空的获得

1.3.1气体的流动状态

1.3.2真空的获得

1.4真空的测量

1.4.1热偶真空计和热阻真空计

1.4.2电离真空计

1.4.3薄膜真空计

1.4.4其他类型的真空计

习题与思考题

第二章 薄膜的物理制备工艺学

2.1薄膜制备方法概述

2.2真空蒸发镀膜

2.2.1真空蒸发原理

2.2.2蒸发源的蒸发特性

2.2.3蒸发源的加热方式

2.2.4合金及化合物的蒸发

2.3溅射镀膜

2.3.1概述

2.3.2辉光放电

2.3.3表征溅射特性的基本参数

2.3.4溅射过程与溅射镀膜

2.3.5溅射机理

2.3.6主要溅射镀膜方式

2.3.7溅射镀膜的厚度均匀性分析

2.3.8溅射镀膜与真空蒸发镀膜的比较

2.4离子束镀膜

2.4.1离子镀的原理与特点

2.4.2离子轰击及其在镀膜中的作用

2.4.3粒子轰击对薄膜生长的影响

2.4.4离子镀的类型及特点

2.5分子束外延技术

2.5.1外延的基本概念

2.5.2 MBE装置及原理

2.5.3 MBE的特点

2.6脉冲激光沉积技术

2.6.1脉冲激光沉积技术概述

2.6.2脉冲激光沉积技术的特点

2.6.3脉冲激光沉积薄膜技术的改进

2.6.4脉冲激光沉积薄膜技术的发展

习题与思考题

第三章 薄膜的化学制备工艺学

3.1概述

3.2化学气相沉积

3.2.1化学气相沉积简介

3.2.2 CVD的基本原理

3.2.3 CVD法的主要特点

3.2.4几种主要的VCD技术简介

3.3薄膜的化学溶液制备技术

3.3.1化学反应镀膜

3.3.2溶胶—凝胶法（Sol—Gel）法

3.3.3阳极氧化法

3.3.4电镀法

3.3.5喷雾热分解法

3.4薄膜的软溶液制备技术

3.4.1软溶液制备技术的基本原理

3.4.2水热电化学

3.5.超薄有机薄膜的LB制备技术

3.5.1概述

3.5.2 LB薄膜技术

习题与思考题

第四章 薄膜制备中的相关技术

4.1基片

4.1.1各种基片的性质

4.1.2基片的清洗

4.1.3超清洁表面

4.2薄膜厚度的测量与监控

4.2.1力学方法

4.2.2电学方法

4.2.3光学方法

4.2.4其他膜厚监控方法

4.3薄膜图形制备技术

4.3.1薄膜图形加工的主要方法

4.3.2光刻法

4.4薄膜制备的环境

4.4.1尘埃与针孔

4.4.2超净工作间标准与级别

习题与思考题

第五章 薄膜的形成与生长

5.1凝结过程与表面扩散过程

5.1.1吸附过程

5.1.2表面扩散过程

5.1.3凝结过程

5.2薄膜晶核的形成与生长

5.2.1晶核形成与生长的物理过程

5.2.2晶核形成理论

5.3薄膜的形成与生长

5.3.1薄膜生长的三种模式

5.3.2薄膜形成过程

5.3.3溅射薄膜与外延薄膜的生长特性

5.3.4非晶薄膜的生长特性

5.3.5影响薄膜生长特性的因素

5.4薄膜形成过程的计算机模拟

5.4.1蒙特卡罗法计算机模拟

5.4.2分子动力学计算机模拟

习题与思考题

第六章 现代薄膜分析方法

6.1概述

6.2 X射线衍射法

6.2.1 X射线衍射原理

6.2.2 X射线衍射的应用

6.3扫描电子显微镜

6.3.1扫描电子显微镜的工作原理

6.3.2扫描电子显微镜的应用

6.3.3新型扫描电子显微镜

6.4透射电子显微镜

6.4.1透射电子显微镜的工作原理

6.4.2 TEM的应用

6.4.3 TEM的发展

6.5俄歇电子能谱

6.5.1俄歇电子能谱的工作原理

6.5.2俄歇电子能谱的应用与发展

6.6 X射线光电子能谱

6.6.1 X射线光电子能谱的工作原理

6.6.2 XPS的定性分析

6.6.3 XPS的定量分析

6.7二次离子质谱

6.7.1二次离子质谱发展简介

6.7.2 SIMS的原理

6.7.3 SIMS的应用

6.7.4 SIMS的新进展

6.8卢瑟福背散射法

6.8.1基本原理

6.8.2分析方法

6.8.3 RBS的实验设备与样品

6.9原子力显微镜

6.9.1原子力显微镜的基本原理

6.9.2原子力显微镜的成像模式

6.9.3压电响应力显微镜

习题与思考题

第七章 薄膜的物理性质

7.1薄膜的力学性质

7.1.1薄膜的附着力

7.1.2薄膜的内应力

7.1.3薄膜的硬度

7.2薄膜的电学性质

7.2.1金属薄膜的电学性质

7.2.2介质薄膜的电学性质

7.2.3半导体薄膜的电学性质

7.3薄膜的光学性能

7.3.1薄膜光学的基本理论

7.3.2薄膜光学性能的测量

7.3.3薄膜波导与光耦合

7.4薄膜的磁学性质

7.4.1薄膜的磁性

7.4.2磁各向异性

7.4.3薄膜的磁畴

7.4.4磁阻效应

7.4.5薄膜制备条件对磁性能的影响

7.5薄膜的热学性质

7.5.1薄膜热导率测量方法

7.5.2薄膜热扩散率测量方法

7.5.3薄膜热容的测量方法

7.5.4薄膜热膨胀系数测量方法

习题与思考题

第八章 几种重要的功能薄膜材料

8.1半导体薄膜

8.1.1概述

8.1.2半导体薄膜的制备方法

8.1.3元素半导体薄膜

8.1.4 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体薄膜

8.1.5 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体薄膜

8.1.6氧化锌薄膜

8.2超导薄膜

8.2.1超导薄膜的制备与性能

8.2.2超导薄膜的研究进展

8.3铁电薄膜

8.3.1概述

8.3.2铁电薄膜的制备

8.3.3铁电薄膜的研究进展

8.4磁性薄膜

8.4.1概述

8.4.2磁记录薄膜

8.4.3磁光薄膜

8.4.4磁阻薄膜

8.4.5氧化物磁性薄膜

8.5磁电薄膜

8.5.1概述

8.5.2单相磁电薄膜

8.5.3多相复合磁电薄膜

8.6光学薄膜

8.6.1光波导薄膜

8.6.2光开关薄膜

8.6.3薄膜透镜

8.6.4薄膜激光器

8.7金刚石薄膜

8.7.1概述

8.7.2金刚石膜的制备方法

8.7.3金刚石膜的性能

习题与思考题

第九章 薄膜应用

9.1半导体薄膜应用

9.1.1非晶硅半导体薄膜应用

9.1.2多晶硅半导体薄膜应用

9.1.3化合物半导体薄膜应用

9.1.4碳化硅薄膜应用

9.2光学薄膜应用

9.2.1减反射膜

9.2.2反射膜

9.2.3分光膜

9.3磁性薄膜应用

9.3.1磁记录薄膜

9.3.2磁光薄膜

9.4超硬薄膜应用

9.4.1金刚石薄膜的应用

9.4.2类金刚石薄膜的应用

9.5发光薄膜应用

9.5.1薄膜发光显示器

9.5.2有机电致发光薄膜

9.6铁电薄膜应用

9.6.1铁电存储器

9.6.2红外热释电探测器

9.6.3铁电薄膜微机电系统（MEMS）

9.6.4铁电光波导及铁电超晶格

9.7超导薄膜应用

9.7.1 SQUID仪器

9.7.2超导微波器件与超导红外探测器

9.7.3超导滤波器

9.7.4超导数字计算机

9.8 LB膜的应用

9.8.1 LB膜在生物膜仿生模拟上的应用

9.8.2 LB膜技术制备超薄膜

9.8.3 LB膜在光学上的应用

9.8.4 LB膜在半导体材料中的应用

9.8.5 LB膜在铁电材料中的应用

9.8.6 LB膜在传感器上的应用

习题与思考题

主要词汇汉英索引

参考文献