前言

第一篇 镀膜

第一章 薄膜制备技术

1-1 真空镀膜设备

一、镀膜机

二、真空泵

1-2 薄膜淀积技术

一、电子束蒸发

二、反应蒸发

三、真空溅射

四、离子镀膜

1-3 膜厚监控

一、波长扫描法

二、石英晶体振荡法

复习题

第二章 膜系及其镀制工艺

2-1 膜系知识

一、减反射膜

2-2 常见典型膜系及其镀制工艺

二、高反射膜

三、分光膜

四、滤光膜

2-3 镀膜零件光学特性的测量

一、光谱特性的测量

二、折射率和几何厚度的测量

2-4 常用的薄膜材料

一、常用的金属薄膜材料

二、常用的介质和半导体薄膜材料

复习题

第三章 化学镀膜

3-1 减反射膜的镀制工艺

一、概述

二、镀制工艺

3-2 透明导电膜的镀制工艺

一、二氧化锡透明导电膜的形成原理和性能

二、透明导电膜的镀制工艺

四、透明导电膜的退修

3-3 化学镀膜材料

三、透明导电膜常见疵病及克服方法

复习题

第二篇 刻划

第四章 刻划设备

4-1 刻划机的安装条件

一、温度

二、安装基础

三、防尘

一、圆刻划机的安装和调试

四、照明

4-2 刻划机的安装和调试

二、圆刻划机的精度测定

三、长刻划机的安装和调试

四、长刻划机的精度测定

五、机床的维护保养与润滑

4-3 光电跟踪

一、光电显微镜

二、光电跟踪

一、光刻原理

4-4 光刻设备

二、长光栅定位闭环数控装置

三、激光定位光刻机

复习题

第五章 刻划工艺

5-1 刻划精度

一、机床传动链的误差

二、机床轴系的误差

三、丝杆、螺母的分度误差

四、摩擦力对机床工作精度的影响

五、空回对刻划精度的影响

六、零件坯料及装夹对刻划精度的影响

七、环境对刻划精度的影响

5-2 刻划夹具设计

一、对夹具的基本要求

二、六点定位原则

三、定位方法

四、工件的夹紧

五、夹具设计

复习题

6-1 照相机

一、制版照相机

第六章 照相设备

第三篇 照相

二、制版镜头

6-2 数字式刻度模版机

一、主机

二、电气系统

三、模版机的使用

6-3 光源

一、概述

二、各种光源的性能、特点及应用

复习题

第七章 照相工艺

7-1 底版放大图的制做

一、底图的绘制

二、漆膜底图的刻制

7-2 底版的初缩

一、调整成像尺寸

二、调整光源

三、校正放大底图和照相机的位置

四、调整焦距

五、选择光圈与曝光时间

7-3 底版的精缩

7-4 超微粒干版

一、概述

二、合成方法

三、配方

四、乳剂制备

五、干版涂布

六、照相加工

七、工艺分析

八、商品超微粒干版

九、超微粒干版的主要技术指标

复习题

第八章 精密分划测量

8-1 长刻尺测量

一、概述

二、激光比长仪

8-2 圆度盘测量

一、度盘误差的概念

二、圆度盘的检定

三、度盘的测量

复习题

第四篇 光栅

第九章 计量光栅的制造

9-1 长光栅的投影光刻制造法

一、概述

二、投影光刻设备的原理

三、光刻胶工艺

9-2 圆光栅的制造

一、机械刻划法

二、光刻法

9-3 计量光栅的复制

一、长光栅的复制

二、圆光栅的复制

复习题

第十章 物理光栅的制造

10-1 物理光栅的基本知识

一、光栅常数

二、光栅方程式

三、光栅的分光原理

四、光栅级次及自由光谱范围

五、光栅的能量分布

六、反射光栅的闪耀及闪耀波长

七、衍射光栅的角色散

八、光栅的分辨本领

九、鬼线

十、伴线

十一、杂散光

十二、不规则能量分布

10-2 物理光栅的刻划工艺

一、刻划机

二、刻刀

三、坯料与镀膜

四、工艺流程与实例

五、质量初步分析

10-3 物理光栅的复制

一、“一次法”平面光栅复制

二、“一次法”凹面光栅复制

三、“二次法”平面光栅复制

四、“二次法”与“一次法”平面光栅复制的比较

五、“一次法”光栅复制工艺实例

复习题