第一章 成膜技术

1-1 概述

1-2 真空蒸发镀膜

1-3 溅射镀膜

1-4 离子成膜法

1-5 化学气相沉积

1-6 分子束外延制膜法

1-7 化学溶液镀膜法

1-8 膜厚的测量与监控

1-9 膜厚分布的计算

习题与思考题

第二章 薄膜的生长过程及结构

2-1 薄膜生长过程及其分类

2-2 成核理论

2-3 溅射薄膜与外延薄膜的生长特性

2-4 薄膜的结构与缺陷

2-5 影响薄膜结构的因素

2-6 非晶态薄膜

习题与思考题

第三章 薄膜的电性能

3-1 连续金属薄膜的电导

3-2 非连续金属薄膜的电导

3-3 介质薄膜

3-4 超导体薄膜

习题与思考题

第四章 薄膜的光学性能

4-1 薄膜光学的基本理论

4-2 薄膜光学性能的测量

4-3 介质膜的反射率

4-4 增透膜与反射膜

4-5 薄膜波导与集成光学

习题与思考题

第五章 薄膜的机械性能和磁学性能

5-1 薄膜的附着力

5-2 薄膜的内应力

5-3 薄膜的硬度

5-4 薄膜的磁性能

习题与思考题

第六章 半导体薄膜

6-1 半导体的光激发效应

6-2 半导体的特征长度及其薄膜的特性

6-3 单晶和非晶半导体薄膜

6-4 半导体薄膜特性的测量法

6-5 半导体薄膜的应用

6-6 光刻与腐蚀技术

习题与思考题

第七章 薄膜的表面与界面

7-1 表面界面特征与现象

7-2 吸附机理与吸附膜的形成机理

7-3 表面扩散与界面扩散

7-4 界面电气现象

7-5 界面接触效应

7-6 薄膜中的电迁移现象

习题与思考题

主要参考文献