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内容简介
目录
第一章激光概述
§1.1 准备知识
§1.2激光的形成
§1.3激光的特性
§1.3.1激光的方向性和高亮度
§1.3.2激光的单色性和时间相干性
§1.3.3激光的空间相干性
第二章光学谐振腔
§2.1光学谐振腔的稳定条件
§2.2激光的纵模
§2.3激光的横模
§2.4共焦腔中的光束特性
§2.4.1高斯光束（一）
§2.4.2共焦腔中的高斯光束
§2.4.3高斯光束（二）
§2.5非共焦腔中的光束特性
§2.5.1对称型非共焦腔中的光束特性
§2.5.2不对称非共焦膣中的光束特性
§2.6高斯光束通过薄透镜时的变换聚焦和准直
§2.7衍射损耗
第三章光的吸收和发射
§3.1热辐射
§3.2光的自发发射、受激吸收和受激发射
§3.2.1 光的自发发射
§3.2.2光的受激吸收和受激发射
§3.2.3 自发发射、受激吸收和受激发射的关系
§3.3 光谱线的宽度
§3.3.1光谱线、线型和宽度
§3.3.2光谱线的自然增宽
§3.3.3光谱线的碰撞增宽
§3.3.4光谱线的多普勒增宽
§3.3.5均匀增宽和非均匀增宽
第四章 介质对光的增益作用
§4.1介质中激发态的粒子数
§4.2光在介质中的增益
§4.2.1介质的增益系数
§4.2.2介质中的增益饱和
第五章激光器基本工作原理
§5.1激光形成的阈值条件
§5.2连续运转激光器中稳定状态的建立和工作特性
§5.2.1均匀增宽谱线稳定态激光器的工作特性
§5.2.2非均匀增宽谱线稳定态激光器的工作特性
§5.3连续运转激光器的输出功率和最佳透过率
§5.4脉冲激光器的尖峰脉冲
§5.5激光的线宽
§5.6有源谐振腔的纵模频率——频率牵引效应
第六章固体激光器
§6.1固体激光工作物质
§6.2.1固体激光器用光源
§6.2光源和聚光、冷却系统
§6.2.2固体激光器的聚光、冷却和滤光系统
§6.3阈值和效率
§6.4红宝石激光器
§6.5钕玻璃激光器
§6.6 掺钕钇铝石榴石（Nd3+:YAG）激光器
§6.7调Q技术
§6.7.1调Q激光器的速率方程
§6.7.2转镜调Q技术
§6.7.3声光调Q技术
§6.7.4染料调Q技术
§6.7.5 电光调Q技术
§6.8倍频技术
§6.9锁模技术
第七章气体激光器
§7.1.1氦氖激光器的工作原理和特性
§71氦氖激光器
§7.1.2氦氖激光器的输出功率
§7.1.3氦氖激光器的稳频
§7.2二氧化碳激光器
§7.2.1二氧化碳激光器概述
§7.2.2二氧化碳激光器工作原理
§7.2.3二氧化碳激光器输出特性和设计考虑
§7.2.4其它类型二氧化碳激光器
§7.3氩离子激光器
§7.4氮分子激光器
§7.5氦镉离子激光器
第八章半导体激光器
§8.1引言
§8.2砷化镓结型激光器的制作
§8.2.1 对GaAs单晶材料的要求和衬底的制备
§8.2.2 P-N结的形成
§8.2.3欧姆接触的形成
§8.2.4谐振腔的形成及激光管的封装
§8.3半导体激光器原理
§8.3.1半导体的能带结构及载流子的统计分布
§8.3.2 P-N结的单向导电性和P-N结的能带结构
§8.3.3半导体受激光发射条件
§8.3.4阈值条件和结型激光器的阈值电流密度
§8.4砷化镓结型激光器特性
§8.4.1阈值性质
§8.4.2功率输出和转换效率
§8.4.3光谱性质
§8.4.4 光束的空间分布
§8.4.5激光器的温升和热阻
§8.4.6激光器的损伤和老化
§8.5 GaAs-Gal-xAlxAs异质结激光器
§8.5.1能带结构和载流子与光波的限制作用
§8.5.3室温连续工作的双异质结激光器
§8.5.2单异质结激光器
§8.5.4条形激光器的模式
§8.5.5 双异质结激光器室温连续工作的寿命问题
§8.6其他类型的半导体激光器
§8.6.1 外腔式GaAs结型激光器
§8.6.2分布反馈式半导体激光器
§8.6.3 可调谐半导体激光器
§8.6.4 电子束激励的半导体激光器
附录A波动光学简述
§A.1光的波动性
§A.2光的？振
§A.3光在透明介质表面的反射和透射
§A.4光的干涉
§A.5薄膜干涉（多层介质高反射膜）
§A.6光的衍射
§A.7光在晶体中的传播
§B.1氢原子的能级原子的电子壳层结构
附录B原子和分子的能级
§B.2氦原子的能级
§B.3氖原子的能级
§B.4 二原子分子的振动光谱
§B.5二原子分子的转动和振转光谱
§B.6二原子分子的电子态
§B.7二氧化碳分子的振动和转动能级
附录C傅里叶级数和傅里叶积分
§C.1 三角函数形式的傅里叶级数
§C.2 三角函数形式的傅里叶积分
§C.3虚指数函数形式的傅里叶级数和傅里叶积分
附录D高斯光束
§D.1 自由空间中的高斯光束
§D.2共焦膣中的高斯光束
§D.3高斯光束通过薄透镜时的变换
