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《半导体工艺化学 基础部分》_张虎嵩编_10830892_15212·83

【书名】:《半导体工艺化学 基础部分》
【作者】:张虎嵩编
【出版社】:天津:天津科学技术出版社
【时间】:1983
【页数】:122
【ISBN】:15212·83
【SS码】:10830892

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内容简介

目录

绪论

第一章 化学基本量

§1-1 摩尔

§1-2 气体的摩尔体积及其计算

§1-3 气体状态方程式

§1-4 摩尔浓度

§1-5 当量和当量定律

§1-6 反应热

复习题

第二章 原子结构和元素周期律

§2-1 原子的组成

§2-2 元素周期律和元素周期表

§2-3 核外电子的排布

§2-4 元素的性质和原子结构的关系

复习题

第三章 分子结构

§3-1 化学键

§3-2 极性分子和非极性分子

§3-3 晶体结构

§3-4 分子间作用力氢键

复习题

第四章 化学反应速度和化学平衡

§4-1 化学反应速度

§4-2 反应活化能

§4-3 影响化学反应速度的因素

§4-4 化学平衡和化学平衡的移动

复习题

第五章 电离理论

§5-1 电解质的电离

§5-2 同离子效应和缓冲溶液

§5-3 水的电离与溶液的pH值

§5-4 盐类的水解

复习题

第六章 络合物

§6-1 络合物的概念

§6-2 络合物的价键理论

§6-3 络合物在半导体工艺中的应用

复习题

第七章 氧化还原反应电化学

§7-1 氧化还原反应

§7-2 氧化还原当量

§7-3 原电池

§7-4 电极电位

§7-5 电解和电镀

阅读材料

复习题

第八章 有机化学基础

§8-1 链状烃

§8-2 芳香烃

§8-3 烃的衍生物

复习题

第九章 有机高分子化合物

§9-1 有机高分子化合物的概念

§9-2 烯类的高聚物

复习题


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