第一章 绪论

1-1 离子注入学科的作用和意义

1-2 国内外离子束研究概况

1-3 离子注入技术的特点

第二章 离子注入装置的物理基础

2-1 概述

2-2 基本工作原理

第三章 离子与固体相互作用的物理基础

3-1 离子与固体相互作用的基本概念

3-2 粒子弹性碰撞

3-3 离子与固体表面的相互作用

第四章 注入离子的射程分布理论

4-1 非晶靶中的射程分布理论

4-2 单晶靶中的射程分布理论

附录4-1 离子注入投影射程表

第五章 离子注入材料分析方法(Ⅰ)

5-1 离子注入材料分析概述

5-2 二次离子质谱技术(SIMS)

5-3 背散射能谱技术(RBS)

5-4 核反应分析法(NRA)

5-5 质子激发X荧光分析技术(PIXE)

附录5-1 串列加速器

6-1 俄歇电子能谱分析(AES)

第六章 离子注入材料分析方法(Ⅱ)

6-2 X射线衍射结构分析(XRD)

6-3 电子显微镜分析(TEM、SEM)

6-4 电子自旋共振技术(ESR)

6-5 正电子湮没技术(PAT)

第七章 金属物理基础

7-1 金属的电子理论

7-2 金属的结构

7-3 合金的结构

7-4 金属和合金中的扩散

7-5 固态相变

附录7-1 周期表中部分元素的晶体结构、原子直径及核外电子分布总表

第八章 金属材料的离子束改性

8-1 金属离子注入的基本效应

8-2 金属材料离子束改性的方法及特点

8-3 金属材料离子束改性的原理及应用实例

8-4 金属材料离子束改性的机理

第九章 功能材料的离子注入

9-1 半导体材料的离子注入

9-2 绝缘材料的离子注入

9-3 磁性材料的离子注入

9-4 光学材料的离子注入

9-5 超导材料的离子注入

参考文献