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《无线电元器件制造工艺及设备》_南京工学院主编_10184690_15034·2012

【书名】:《无线电元器件制造工艺及设备》
【作者】:南京工学院主编
【出版社】:北京:国防工业出版社
【时间】:1980
【页数】:276
【ISBN】:15034·2012
【SS码】:10184690

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内容简介

第一篇 阻容元件制造工艺及设备

第一章 电阻元件制造工艺及主要设备

第一节 概述

第二节 1/8瓦碳膜电阻结构及工艺流程

目录

第三节 1/8瓦电阻自动加帽机

第四节 电阻初值自动分选机

第五节 自动刻槽机

第六节 电阻引线自动焊接机

第七节 电阻自动包装机

第二章 电容器制造工艺及主要设备

第一节 概述

第二节 云母电容器制造设备

第三节 金属化纸介电容器制造设备

第四节 瓷片电容制造设备

第一节 应用和分类

第二节 电子管的典型结构

第三章 电子管及专用设备

第二篇 电子管制造工艺及设备

第三节 电子管生产的工艺流程和特点

第四章 电极制造

第一节 热丝制造

第二节 阴极制造

第三节 栅极制造

第四节 阳极制造

第五章 绝缘零件制造

第一节 云母片制造

第二节 芯柱制造

第三节 玻壳制造

第六章 总成工艺

第一节 装架

第二节 封口

第三节 排气

第四节 老炼与测试

第三篇 半导体工艺及设备

第七章 半导体、p-n结与晶体管

第一节 半导体

第二节 p-n结及其特性

第三节 晶体管的基本结构

第四节 晶体管的放大原理

第五节 MOS场效应晶体管

第八章 半导体器件工艺

第一节 硅外延平面管制造工艺过程

第二节 扩散工艺

第三节 光刻工艺

第四节 外延工艺

第二节 硅单片集成电路结构与制造工艺

第一节 集成电路

第九章 集成电路结构与制造工艺

第三节 MOS电路结构与制造工艺

第十章 大规模-超大规模

集成电路工艺技术

第一节 净化技术

第二节 电子束光刻技术

第三节 X射线光刻技术

第四节 电子束蒸发技术

第五节 离子注入技术

第六节 离子束刻蚀技术

第七节 离子束涂膜技术

第十一章 硅单晶棒的拉制、切片

和芯片划片设备

第一节 单晶炉

第二节 切片机

第三节 划片机

第十二章 半导体制版与光刻设备

第一节 制版与光刻

第二节 图形发生器

第三节 精缩机

第四节 光刻机

第十三章 引线键合设备

第一节 概述

第二节 引线超声键合

第三节 引线金丝球热压焊

第四节 薄膜载带凸点自动焊

第十四章 电子束与离子束设备

第一节 电子束曝光机

第二节 离子注入机


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