目录

前言

绪论

第一章 聚集态与相平衡

1-1 物质的聚集态

一、三态的聚集特点

二、晶体的结合

1-2 晶体结构简介

一、晶体的点阵结构

二、典型晶体结构

三、晶面与面指数

1-3 相律

1-4 相图

一、单组分相图

二、二组分体系

三、杠杆原理

四、简单相图的绘制

五、相图的应用

复习题

第二章 晶体的形成

2-1 晶核的形成

一、均匀成核

二、非均匀成核

2-2 晶体生长过程和形态

2-3 完整晶面生长

2-4 准理想晶面生长

复习题

第三章 晶体生长的热量输运和质量输运

3-1 热量输运

一、热量输运的基本形式

二、热损耗和稳定温度

三、温场和温度梯度

四、液流效应

一、分凝系数

3-2 质量输运

二、溶质分布的均匀化

三、生长层

3-3 界面的稳定性和组分过冷

一、界面的稳定性

二、胞状界面和胞状组织（结构）

三、产生组分过冷的临界条件

复习题

第四章 溶液生长

4-1 溶液和溶解度

一、溶液和溶解过程

二、溶液浓度

三、饱和与过饱和

四、溶解度

五、溶剂的性质和选择

六、分配系数

一、降温法

4-2 从溶液中生长晶体的方法

二、流动法（温差法）

三、蒸发法

四、溶液中生长晶体的一般步骤

五、晶体常见缺陷和单晶完整性的控制

4-3 水热法生长

一、水热法生长

二、高压釜

三、影响晶体生长的因素

四、人造水晶的水热生长

4-4 熔剂法生长晶体

一、熔剂法生长原理

二、生长装置

三、熔剂的选择

四、生长方法

复习题

5-1 熔体生长原理

第五章 熔体生长

5-2 提拉法

一、提拉法简介

二、提拉法装置

三、温度分布对晶体生长的影响

四、晶体生长对温场的要求

五、晶体旋转对晶体生长的影响

六、掺杂与有害杂质

七、籽晶

八、组分过冷

九、直径自动控制技术

十、挥发材料的生长

5-3 导模法与热交换法

一、导模法

二、热交换法

一、坩埚下降法生长原理

5-4 坩埚下降法

二、生长装置

三、坩埚下降法生长工艺

5-5 焰熔法

一、焰熔法生长工艺

二、焰熔法生长技术和设备的改进

5-6 区熔法

复习题

6-1 汽相生长的一般原理

第六章 汽相生长

6-2 汽相生长技术

一、物理输运技术

二、化学输运技术

三、生长装置

复习题

7-2 金刚石的人工合成

三、粉末烧结法

二、重结晶法

一、高压法

7-1 固相生长的基础知识

第七章 固相生长

一、碳的同素异构体

二、金刚石合成机理

三、金刚石合成工艺及装备

复习题

一、点缺陷

8-1 晶体缺陷概述

第八章 晶体的缺陷与检测

二、线缺陷

三、面缺陷

四、体缺陷

8-2 晶体缺陷的观察和检测

一、侵蚀法观察位错

二、缀饰法观察位错

三、光学法观察位错

四、x射线形貌法

五、其他观测方法介绍

复习题

第九章 晶体生长有关技术概述

9-1 真空技术

一、真空度单位

二、真空的获得

三、真空测量

一、电阻加热

9-2 热技术

二、保温

9-3 测温技术

一、温度标准

二、膨胀温度计

三、热电偶温度计

四、电阻温度计

五、辐射测温计（光学高温计）

9-4 炉内气氛

复习题