Ⅰ．磁光型可擦重写光盘

第一章　磁光盘存储介质

第二章　磁光效应机理和新型磁光材料

第三章　用于光盘存储的光学介质膜

第四章　磁光盘的制备及其性能

Ⅱ．相变型可擦重写光盘

第一章　可擦重写相变光盘存储材料

第二章 可擦重写相变光盘存储材料的高速擦除和高稳定性

第三章 相变光记录介质GeSb2Te4薄膜的热致和光致相变

第四章　In-Sb基光盘材料特性

Ⅲ．光色和光子选通光存储材料

第一章　有机光色存储材料

第二章　光色存储材料的合成及其性能

第三章　金属有机络合物存储材料

第四章　光子选通光存储

第五章　新型有机光子选通光存储材料

第六章　掺钐碱土硫酸盐的光谱和光子选通光存储

Ⅳ．光盘盘基、伺服槽和制式刻录技术

第一章　玻璃光盘基片的制备工艺

第二章　光盘和盘基缺陷检测

第三章　光盘伺服槽和预制格式刻划机

第四章　光盘伺服槽和预制格式刻划机控制系统

第五章　光盘预刻槽的曝光与显影

第六章　φ130mm光盘玻璃基片沟槽刻蚀

Ⅴ．光盘信息的测试技术和标准化

第一章　磁光盘静态特性测试装置

第二章　光盘动态读写测试仪

第三章　磁光盘专用光学读写头关键技术

第四章　φ130mm可擦重写光盘预格式信息分析及计算机模拟

第五章　φ130mm可擦重写光盘的标准化