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《分析晶体缺陷的电子显微术》_(美)洛雷托,(美)斯莫尔曼著;康振川,王桂金译_10526144_15119·2028

【书名】:《分析晶体缺陷的电子显微术》
【作者】:(美)洛雷托,(美)斯莫尔曼著;康振川,王桂金译
【出版社】:上海:上海科学技术出版社
【时间】:1979
【页数】:111
【ISBN】:15119·2028
【SS码】:10526144

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内容简介

目录

第一章电子显微镜的基本操作

1-1引言

1-2电子显微镜的基本构造

1-3象和衍射花样的关系

1-4选区衍射花样

1-4-1选区衍射的误差

1-5透射电子显微镜中图象的形成

第二章衍射花样的形成和分析

2-1引言

2-2根据电子衍射花样确定电子束方向B和衍射斑点指数g

2-3菊池线的成因和用菊池线测定入射束方向B

2-4衍射晶面与布拉格角的偏差的测定

2-5菊池图

2-6由电子显微象测定真实方向

第三章象衬导论

3-1引言

3-2象衬理论

3-2-1象衬运动学理论

3-2-2象衬动力学理论

3-3衬度计算结果概要

3 3-1全位错的特点

3-3-2层错等面缺陷的成象特点

3-3-3偏位错的衬度

3-3-4空洞及其他三维缺陷的衬度

3-3-5扩张线衬度

第四章晶体缺陷分析

4-1引言

4-2立体显微术和膜厚、膜面法线的测定

4-3用象消失判据测定位错线的柏格斯矢量

4-4利用实验象的计算机模拟来进行缺陷的鉴定

4-5平面缺陷的分析

4-5-1面心立方晶体中堆垛层错的分析

4-5-2密排六方晶体中堆垛层错的分析

4-5-3有序合金中反相畴边界的分析

4-5-4应用于薄脱溶产物

4-6偏位错的鉴定

4-6-1面心立方金属中的偏位错

4-7位错环性质的分析

4-7-1纯刃型位错环

4-7-2非刃型位错环的分析

4-7-3小位错环的分析

4-7-4大应变中心引起的衬度分析

第五章缺陷分析的其他新技术

5-1引言

5-2弱束显微术

5-2-1弱束技术的原理

5-2-2弱束技术的实验方法

5-3超高压电子显微镜(H.V.E.M.)

5-4扫描透射电子显微镜(S.T.E.M.)

5-4-1 S.T.E.M.作缺陷分析

5-5一般进展

附录一 倒易点阵及一些重要的晶体学关系

附录二

参考文献


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