1.1 电子光学特征

1 电子光学

1.2 轴对称电场中的电子运动

1.3 电透镜

1.4 磁透镜

1.5 实用磁透镜

1.6 静电透镜与磁透镜的比较

2 电子束技术基础

2.1 电子束的产生及性质

2.2 电子枪概述

2.3 强流电子枪设计基础

2.4 电子束蒸发沉积

3.1 等离子体基本性质

3 离子束物理基础

3.2 等离子体的分类

3.3 等离子体的获得

3.4 低温等离子体中粒子运动和放电基本过程

3.5 离子束与材料表面的相互作用

4 强流轴向电子枪

4.1 概述

4.2 轴向电子枪基本结构和工作原理

4.3 轴向电子束发生系统设计计算

4.4 电子光路系统设计计算

4.5 枪室真空系统设计

4.6 电子枪的调试

4.7 强流轴向枪电源设计

4.8 电子枪X射线的形成与屏蔽防护

5 偏转电子枪

5.1 电子束流磁偏转理论基础

5.2 偏转电子枪工作原理与结构

5.3 偏转枪（e型枪）参数设计

5.4 偏转电子枪束流设计计算

5.5 压差孔的设计

5.6 电子枪头的安装与调试

5.7 偏转电子枪电源

6 空心阴极放电（HCD）电子枪

6.1 空心阴极放电效应

6.2 空心阴极电子枪工作原理

6.3 空心阴极电子枪设计参数

6.4 HCD枪中等离子体的离化率与电流形成

6.5 偏转电磁场的设计计算

6.6 空心阴极与辅助阳极的设计

6.7 离子镀中等离子源的束流偏转

7 离子束技术

7.1 离子源

7.2 离子注入技术

7.3 离子束沉积技术

8 S枪离子溅射源的设计基础

8.1 S枪的基本原理与结构

8.2 S枪溅射源结构设计

8.3 S枪磁控溅射的工作特性

8.4 基本参数的设计计算

参考文献