第1章 绪论

1.1 腐蚀的危害及调查概况

1.2 腐蚀防护措施简介

1.3 本书撰写的主要目的

参考文献

第2章 金属腐蚀的光电化学阴极保护理论基础

2.1 半导体简介

2.2 光催化过程

2.3 光电化学阴极保护原理

2.4 光电化学阴极保护的影响因素

2.4.1 半导体能级结构对光电化学阴极保护效应的影响

2.4.2 半导体涂层的特性对光电化学阴极保护效应的影响

2.4.3 光生电子-空穴界面转移／反应过程对光电化学阴极保护效应的影响

2.5 光电化学阴极保护过程

参考文献

第3章 光电化学阴极保护研究现状

3.1 引言

3.2 金属光电化学阴极保护研究的起源与发展现状

3.2.1 光电极涂层的制备方法

3.2.2 导带电位对金属材料光电化学阴极保护的重要影响

3.2.3 太阳光利用效率的提高及可见光响应的光电化学阴极保护涂层材料的开发

3.2.4 光电储能材料暗态持续保护性能的研究

3.2.5 高保护性材料与光电材料的复合对金属抗腐蚀保护性能的改善

参考文献

第4章 石墨相氮化碳系列材料的光电化学阴极保护性能研究

4.1 类石墨结构氮化碳材料g-C3N4的光电化学阴极保护性能

4.1.1 引言

4.1.2 石墨相氮化碳材料的制备及表征

4.1.3 石墨相氮化碳材料的光电化学阴极保护性能

4.1.4 石墨相氮化碳光电极的光电化学阴极保护机理分析

4.1.5 小结

4.2 超薄介孔氮化碳包覆氧化锌复合材料的光电化学阴极保护性能研究

4.2.1 引言

4.2.2 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的表面形貌与微观结构分析

4.2.3 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的晶体结构与化学组成分析

4.2.4 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光学吸收性能分析

4.2.5 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光电化学阴极保护性能分析

4.2.6 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光电化学和电化学性能分析

4.2.7 C3N4＠ZnO纳米壳核结构复合材料的光电化学阴极保护机理分析

4.2.8 小结

4.3 C3N4＠In2O3壳核结构复合物的光电化学阴极保护性能研究

4.3.1 引言

4.3.2 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的晶相结构和形貌

4.3.3 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的化学组成

4.3.4 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光吸收性能

4.3.5 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光电化学阴极保护性能

4.3.6 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光电化学性能

4.3.7 C3N4＠In2O3壳核结构复合材料的光电化学阴极保护机理

4.3.8 小结

参考文献

第5章 改性半导体材料的光电化学阴极保护性能研究

5.1 Ni掺杂二氧化钛的光电化学阴极保护性能

5.1.1 引言

5.1.2 Ni掺杂二氧化钛样品的物理表征

5.1.3 Ni掺杂二氧化钛样品的光学吸收性能分析

5.1.4 Ni掺杂二氧化钛样品的光电化学阴极保护性能分析

5.1.5 Ni掺杂二氧化钛样品的光电化学阴极保护机理分析

5.1.6 小结

5.2 过氧化氢处理氧化铟的光电化学阴极保护性能

5.2.1 引言

5.2.2 制备的氧化铟样品的晶相结构和形貌分析

5.2.3 制备的氧化铟样品的表面组分状态分析

5.2.4 制备的氧化铟样品的光学吸收性能分析

5.2.5 制备的氧化铟样品的光电化学阴极保护性能分析

5.2.6 制备的氧化铟样品的电化学／光电化学性能

5.2.7 制备的氧化铟样品的光电化学阴极保护机理分析

5.2.8 小结

参考文献

第6章 复合材料的光电化学阴极保护性能研究

6.1 氧化铟／二氧化钛复合材料的光电化学阴极保护性能

6.1.1 引言

6.1.2 In2O3/TiO2复合物的晶体结构和表面形貌分析

6.1.3 In2O3TiO2复合物的光吸收性能分析

6.1.4 In2O3/TiO2复合物的光电化学阴极保护性能

6.1.5 In2O3/TiO2的光电化学性能分析

6.1.6 In2O3/TiO2的光电化学阴极保护性能的提升机理

6.1.7 小结

6.2 硫化铟敏化氧化锌纳米棒阵列的光电化学阴极保护性能研究

6.2.1 引言

6.2.2 In2S3/ZnO NRA复合物的晶体结构分析

6.2.3 In2S3/ZnO NRA复合物的表面形貌分析

6.2.4 In2S3/ZnO NRA复合物的微观结构和化学组成分析

6.2.5 In2S3/ZnO NRA复合物的光吸收性能分析

6.2.6 In2S3/ZnO NRA复合物的光电化学阴极保护性能分析

6.2.7 In2S3/ZnO NRA复合物的光电化学阴极保护机理分析

6.2.8 小结

参考文献

第7章 储电子材料氧化钨的光电化学阴极保护性能研究

7.1 硫化镉敏化纳米花状氧化钨的光电化学阴极保护性能

7.1.1 引言

7.1.2 硫化镉敏化纳米花状氧化钨薄膜材料的表面形貌分析

7.1.3 硫化镉敏化纳米花状氧化钨薄膜材料的成分分析

7.1.4 硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的光吸收性能分析

7.1.5 硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的光电化学阴极保护性能分析

7.1.6 硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的电子存储性能分析

7.1.7 硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的电化学性能分析

7.1.8 硫化镉敏化纳米花状氧化钨材料的光电化学阴极保护机理分析

7.1.9 小结

7.2 二氧化钛-氧化钨／还原氧化石墨烯体系的光电化学阴极保护性能研究

7.2.1 引言

7.2.2 WO3/rGO复合物的形貌及结构分析

7.2.3 TiO2-WO3/rGO复合物的光电化学阴极保护性能

7.2.4 制备的WO3/rGO复合物的电化学性能

7.2.5 TiO2-WO3/rGO体系光电化学阴极保护性能提升的机制

7.2.6 小结

参考文献

第8章 结语