目录

序论

第一章　陶瓷在超高频电子器件中的应用

1-1　陶瓷和玻璃性能的比较

1-2　陶瓷在中小功率三极管中的应用

1-3　陶瓷在小功率行波管和速调管中的应用

1-4　陶瓷在中、大功率器件中的应用

1-5　陶瓷在功率器件输出装置中的应用

1-6　陶瓷在气体放电器件中的应用

第二章　陶瓷的技术性能

2-1　一般要求

2-2　化学-矿物组成和结构

2-3　真空性能

2-4　机械性能

2-5　热性能

2-6 电性能

2-7　二次电子发射

2-8　抗辐射性

3-1　氧化铝陶瓷

第三章　真空-致密陶瓷工艺

3-2　氧化铝制备

3-3　矿化剂的制备

3-4　配合料的制备

3-5　零件的成型

3-6　陶瓷的固相烧结

3-7　陶瓷的液相烧结

3-8　制件的焙烧

3-9　陶瓷的研磨

3-10　氧化铍瓷

3-11　硅酸镁陶瓷

第四章　结构金属与焊料

4-1　总的要求

4-2　铜与镍

4-3　钼与钨

4-4　钛与锆

4-5　钽与铌

4-6　铁基合金

4-7　与高氧化铝瓷匹配封接用的合金

4-8　钼-铼与钨-铼合金

4-9　铜镍合金

4-10　焊料

第五章　陶瓷-金属封接件的设计

5-1　陶瓷-金属封接件中的机械应力

5-2　端面封接的应力计算

5-3　端封件中应力的测量

5-4　对端封设计的建议

5-5　套封的应力计算

5-6　套封中应力的实验测量，设计建议

5-7　陶瓷-金属封接件结构

第六章　陶瓷金属化与封接时的物理-化学过程

6-1　金属化层组分和气体介质的相互作用

6-2　金属化层的组分与氧化铝的相互作用

6-3　金属化层与陶瓷玻璃相的相互作用

6-4　金属化层的烧结过程

6-5　金属化层与陶瓷形成牢固联结的过程

6-6　金属化层的组成与结构

6-7　焊料与金属化层及结构金属的相互作用

第七章　陶瓷金属化及封接工艺

7-1　陶瓷的金属化工艺、金属化层的组成

7-2　金属化膏剂制备

7-3　陶瓷零件上金属化层的涂敷

7-4　金属化层的烧结

7-5　二次金属化层的涂敷、零件的超声波清洗

7-6　陶瓷-金属封接件的装架和封接

7-7　用电介质焊料的封接

第八章　陶瓷用活性金属封接

8-1　活性封接机理

8-2　工艺因素对封接性能的影响

8-3　陶瓷-金属部件的封接

8-4　工艺设备

第九章　热压封接和陶瓷的压力封接

9-1　热压封接的基本过程

9-2　热压封接的工艺规范

9-3　陶瓷-金属封接件的装配与封接

9-4　压力封接

9-5　工艺设备

第十章　陶瓷-金属封接件的检验方法和技术特性

10-1　部件的检验

10-2　技术性能

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