绪论

第一章 薄膜的制备技术

1-1蒸发

1-2溅射镀膜

1-3离子镀

1-4离子束沉积

1-5化学气相沉积

1-6等离子体化学气相沉积

1-7分子束外延

1-8LB技术

1-9Sol-Gel工艺

第二章 薄膜厚度和沉积速率的测定和监控

2-1概述

2-2触针法

2-3秤量法

2-4石英晶体振荡法

2-5电阻法

2-6光干涉法

2-7椭圆偏振法

第三章 薄膜的形成机理

3-1形成薄膜的起始条件

3-2成核理论

3-3薄膜的生长过程

第四章 薄膜的结构与缺陷

4-1薄膜的非晶态结构

4-2薄膜的亚稳态结构

4-3薄膜中的织构

4-4薄膜的晶粒组织和表面状态

4-5薄膜中的缺陷

第五章 薄膜的性质

5-1薄膜的力学性质

5-2薄膜的电学性质

5-3薄膜的光学性质

5-4薄膜的磁学性质

附表1元素蒸发镀膜特性

附表2无机化合物直接蒸发镀膜特性