1序论

2感光性高分子的开发史

2—1相片制版法的发明

2—2photoresist的开发史

2—2—1photoetching和photoresist

2—2—2重铬酸系resist

2—2—3有机光化学和photoresist

2—3photoresist用感光性高分子的开发史

2—3—1polyvinylcinnamate系resist

2—3—2bisazide-gum系resist

2—3—3naphtoquinonediazide系resist

2—3—4光聚合系resist

2—4感光性树脂凸版的开发史

文献

3有机光反应的基础

3—1光化学反应的概念

3—2光的特性

3—2—1光能量

3—2—2光的吸收

3—2—3高分子薄膜的光吸收

3—3量子收率

3—4电子迁移和激励状态

3—5n-π＊和π-π＊迁移

3—6电荷移动迁移

3—7发光光谱

3—8光化学反应

3—9Stern-Volmer关系图

文献

4感光性高分子的机能和分类

4—1相片的机能

4—1—1特性曲线

4—1—2感度

4—1—3分光感度

4—1—4解像力

4—1—5显像性

4—1—6耐久性

4—1—7影响相片机能的因素

4—1—8易剥膜性

4—2光硬化机能

4—2—1光反应的种类及硬化

4—2—2光源、光强度及波长

4—2—3热硬化及光硬化的比较

4—3光崩坏（劣化）机能

4—4其他机能

4—4—1光反应的触媒性

4—4—2光导电性

4—4—3光发光性

4—4—4光发消色性

4—5感光性高分子的分类

文献

5感光性化合物十高分子型

5—1重铬酸盐类

5—1—1重铬酸盐的光反应

5—1—2重铬酸盐系感光性高分子

5—2芳香族重氮化合物

5—2—1芳香族重氮化合物的光反应

5—2—2使用重气化合物的感光性高分子

5—3芳香族azide化合物

5—3—1芳香族azide化合物的光反应

5—3—2芳香族nitrene

5—3—3使用芳香族azide化合物的感光性高分子

5—4其他的感光性化合物

5—4—1有机卤化合物

5—4—2光聚合开始剂

5—4—3芳香族硝基化合物

5—4—4其他的化合物

文献

6含感光基的高分子型

6—1含感光性基高分子的合成法

6—1—1高分子反应

6—1—2聚合反应

6—1—3含感光性基高分子的改质法

6—2polyvinylcinnamate及类似高分子化合物

6—2—1polyvinylcinnamate（PVC。）

6—2—2含cinnamoyl基的其他高分子

6—2—3由环丁烷化行架桥反应的其他高分子

6—3含diazo基、azide基的高分子

6—3—1diazo系感光性高分子

6—3—2叠氮（azide）系感光性高分子

6—4含其他感光基的高分子

6—4—1 1，2，3-thiadiazole系高分子

6—4—2含有硫磺的高分子

6—4—3含有硝基的高分子

6—4—4含其他感光性基的高分子

6—5光崩坏型感光性高分子

6—5—1光崩坏反应的机构

6—5—2光崩坏型感光性高分子

文献

7光聚合性组成型

7—1光聚合反应

7—1—1光聚合开始剂

7—1—2光聚合速度的解析

7—2单独光聚合系

7—3光聚合性单体+高分子系

7—3—1光聚合性单体

7—3—2含官能基的高分子

7—3—3光聚合系组成

7—4光聚合系的增感方法

7—4—1影响光聚合感度的因素

7—4—2光聚合系的增感方法

文献

8感电子线及X线的高分子

8—1电子线及X线的性质

8—2电子线及X线对高分子的作用

8—3G值与感度

8—4感电子线材料用高分子化合物

8—4—1posi型感电子线材料

8—4—2nega型感电子线材料

8—5X线resist用高分子化合物

8—5—1X线lithography

8—5—2X线resist

文献

9感光性高分子的应用

文献