第1章 绪论&李爱东 刘建国

1.1材料的发展历史

1.2先进材料及其重要性

1.3先进材料的合成与制备技术

参考文献

第2章 溶胶-凝胶法&刘文超

2.1溶胶-凝胶法概论

2.1.1溶胶-凝胶法简介

2.1.2溶胶-凝胶法的主要用途和基本流程

2.1.3溶胶-凝胶法的优缺点

2.2溶胶-凝胶法制备薄膜

2.2.1溶胶-凝胶法制备氧化物薄膜

2.2.2溶胶-凝胶法制备硫化物薄膜

2.2.3溶胶-凝胶法制备无机-有机杂化薄膜

2.3溶胶-凝胶法制备纳米晶

2.3.1溶胶-凝胶法制备氧化物纳米晶

2.3.2溶胶-凝胶法制备金属纳米晶

2.4小结

参考文献

第3章 水热和溶剂热法&高峰

3.1水热和溶剂热法概述

3.1.1水热法

3.1.2水热物理化学

3.1.3水热技术类型

3.1.4溶剂热法

3.2水热和溶剂热法在纳米材料制备中的应用进展

3.2.1金属、半金属及合金纳米材料的合成

3.2.2二元氧簇化合物纳米材料的合成

3.2.3氮簇和碳簇纳米材料的合成

3.2.4多元化合物纳米材料的合成

3.2.5介孔和介结构材料的合成

3.2.6复合纳米材料的合成

3.3水热和溶剂热法在材料合成中的应用展望

参考文献

第4章 微波合成&刘建国

4.1微波与物质的相互作用

4.2液相微波合成

4.3固相微波合成

4.3.1间歇微波法合成三氧化钨-碳复合材料用于直接甲醇燃料电池

4.3.2间歇微波法制备掺氮石墨烯用于PEMFC中的Pt催化剂载体

4.3.3微波法合成超薄g-C3 N1用于光催化还原CO2

4.4小结

参考文献

第5章 超声电化学技术&唐少春

5.1超声电化学概述

5.1.1超声化学合成法

5.1.2电化学法

5.1.3超声电化学法的原理与特点

5.1.4超声电化学法的分类

5.2超声电化学法在纳米材料制备中的应用进展

5.2.1纳米颗粒的制备

5.2.2一维纳米材料的制备

5.2.3树枝状纳米材料的制备

5.2.4多孔纳米材料的制备

5.2.5复合纳米材料的制备

5.3超声电化学在材料合成中的应用展望

参考文献

第6章 化学气相沉积&李爱东

6.1引言

6.2化学气相沉积原理

6.2.1定义

6.2.2 CVD中的化学反应

6.2.3 CVD中的化学热力学和动力学

6.2.4化学气相沉积的特点与分类

6.3化学气相沉积前驱体和材料

6.3.1化学气相沉积前驱体的要求和种类

6.3.2化学气相沉积材料

6.4化学气相沉积与新材料

6.4.1 MOCVD生长LaAlO3栅介电薄膜及其电学性能

6.4.2新型无水金属硝酸盐CVD前驱体的合成、表征及其应用

6.4.3聚焦离子束化学气相沉积在复杂三维纳米结构制备上的应用

6.4.4化学气相沉积碳元素家族材料

参考文献

第7章 原子层沉积&李爱东

7.1引言

7.2原子层沉积原理和特点

7.2.1原子层沉积原理

7.2.2原子层沉积特点

7.2.3原子层沉积分类

7.3原子层沉积前驱体和材料

7.3.1原子层沉积前驱体

7.3.2原子层沉积材料

7.4等离子体增强原子层沉积

7.4.1等离子体增强原子层沉积原理

7.4.2等离子体增强原子层沉积特点

7.5原子层沉积应用

7.5.1高k栅介质与新型半导体沟道材料的集成与性能

7.5.2超高密度存储器

7.5.3生物相容性涂层

7.5.4纳米结构和图案的制备及其在能源和光学领域的应用

参考文献

第8章 团簇束流沉积&韩民

8.1团簇束流沉积技术概述

8.2团簇束流的产生

8.3团簇束流沉积制备纳米结构薄膜

8.3.1团簇束流沉积纳米粒子薄膜制备技术

8.3.2团簇束流沉积过程的在线监控

8.3.3定向团簇束流沉积

8.4荷能团簇束流沉积

参考文献

第9章 脉冲激光沉积技术&陈晓原

9.1引言

9.2激光与靶的相互作用

9.2.1概述

9.2.2靶对激光的吸收及靶的熔化和气化

9.2.3表面等离子体形成及与激光的相互作用

9.2.4 碰撞及喷嘴效应

9.2.5蒸气及等离子体与靶表面的相互作用

9.3羽焰的传输

9.3.1概述

9.3.2激光脉冲结束后表面等离子体的初始膨胀

9.3.3烧蚀物传输的流体行为—— 激波的形成和传输

9.3.4激波的效应

9.3.5沉积粒子速度的双峰现象

9.3.6真空及低气压下烧蚀物对膜表面的再溅射效应

9.4沉积粒子的化学状态、动能、沉积时间和空间分布

9.4.1概述

9.4.2沉积粒子化学状态

9.4.3沉积粒子能量

9.4.4沉积时间和沉积速率

9.4.5沉积粒子的空间分布

9.4.6 PLD与MBE的比较

9.5薄膜的形成及生长

9.5.1薄膜生长的基本过程

9.5.2 PLD中薄膜生长的特征

9.5.3薄膜取向控制

9.6小结和展望

参考文献

第10章 分子束外延&顾正彬 吴迪 聂越峰

10.1 Ⅲ-Ⅴ族分子束外延

10.1.1概述

10.1.2技术原理与系统构成

10.1.3技术特点

10.1.4分子束的产生

10.1.5 RHEED监控原理

10.2激光分子束外延

10.2.1概述

10.2.2高压RHEED监控

10.2.3二维薄膜生长：逐层生长和台阶流生长

10.2.4衬底处理

10.2.5钙钛矿薄膜、超薄膜和超晶格制备

10.3氧化物分子束外延

10.3.1概述

10.3.2同质外延生长SrTiO3薄膜

10.3.3异质外延生长SrTiO3薄膜

参考文献

第11章 磁控溅射&顾正彬

11.1溅射原理概述

11.1.1溅射的工作原理

11.1.2磁控溅射的工作原理

11.1.3磁控溅射薄膜生长特点

11.1.4溅射产额

11.2磁控溅射技术

11.2.1射频溅射与反应溅射

11.2.2非平衡磁控溅射技术

11.2.3脉冲磁控溅射

11.3磁控溅射应用于材料沉积的实例

11.3.1磁控溅射氧化锌薄膜的生长

11.3.2磁控溅射铁氧体薄膜的生长

11.3.3反应磁控溅射生长二氧化钒薄膜

参考文献

第12章 蒸发沉积技术&袁长胜

12.1蒸发沉积的物理基础

12.1.1蒸发与凝结

12.1.2蒸发物质的空间角分布

12.2蒸发沉积膜层的生长与结构特性

12.3平坦表面的柱状微结构的蒸发沉积

12.3.1表面扩散与柱状微结构薄膜生长

12.3.2倾角蒸发沉积的微孔柱状微结构生长

12.3.3预置图案化表面的微孔柱状微结构生长

12.3.4 掠角蒸发沉积的微孔柱状微结构生长

12.3.5微孔柱状结构薄膜的物理特性及其应用

12.4微结构表面的蒸发沉积

12.4.1蒸发沉积的台阶覆盖性能

12.4.2定向沉积与沉积膜层的图案化

12.4.3图案化沉积膜层的遮蔽蒸发沉积

参考文献

第13章 提拉法晶体生长技术&姚淑华

13.1引言

13.2提拉法简介

13.3提拉法晶体生长理论

13.3.1输运理论

13.3.2热力学理论

13.3.3动力学理论

13.3.4晶体生长形态

13.4提拉法晶体生长过程

13.4.1提拉法晶体生长程序

13.4.2影响晶体生长的因素

13.5晶体结构与缺陷

13.5.1晶体结构

13.5.2晶体缺陷

13.6提拉法晶体生长技术进展

13.6.1自动等径技术（ADC）

13.6.2双坩埚连续加料技术

参考文献

第14章 纳米压印技术&葛海雄

14.1纳米压印技术的发展

14.2纳米压印技术的种类

14.2.1热压印与紫外光固化压印

14.2.2滚轴压印

14.3纳米压印胶材料

14.3.1紫外光固化纳米压印材料

14.3.2双层纳米压印胶体系

14.4纳米压印的技术挑战

14.4.1纳米压印的缺陷与对准问题

14.4.2纳米压印的工艺要求

14.4.3纳米压印模板与低表面能处理

14.5复合纳米压印技术

14.5.1复合纳米压印模板

14.5.2曲面压印

14.5.3改善纳米压印缺陷

14.6纳米压印技术的应用与前景

14.6.1磁记录与存储器件

14.6.2纳米图案化蓝宝石衬底

14.6.3有序金属纳米结构阵列

参考文献