第1章 X射线的物理基础

1.1 X射线的定义

1.2 X射线光谱

1.2.1 连续X射线光谱

1.2.2 原子结构及轨道能级

1.2.3 特征X射线光谱

1.2.4 莫塞莱定律

1.2.5 特征X射线光谱强度间的相对关系

1.3 俄歇效应：伴线

1.4 荧光效应：荧光产额

参考文献

第2章 X射线的基本性质

2.1 X射线的散射

2.1.1 相干散射

2.1.2 康普顿散射

2.2 X射线的衍射与偏转

2.2.1 布拉格衍射原理

2.2.2 X射线的偏转

2.2.3 镜面反射

2.2.4 全反射

2.3 X射线的吸收

2.3.1 质量吸收或衰减系数

2.3.2 质量吸收或衰减系数与波长及原子序数的关系

2.3.3 吸收限及临界厚度

2.3.4 反平方定律

参考文献

第3章 X射线的激发

3.1 初级激发

3.2 次级激发

3.2.1 单色激发

3.2.2 多色激发

3.3 互致激发（次生激发）

3.4 激发源

3.4.1 放射性同位素

3.4.2 同步辐射光源

3.4.3 X射线管

3.4.4 二次靶

参考文献

第4章 X射线的色散

4.1 概述

4.2 波长色散

4.3 能量色散

4.4 非色散

参考文献

第5章 X射线的探测

5.1 概述

5.2 气体正比型探测器

5.3 探测器的光电转换参数

5.4 闪烁计数器

5.5 固体探测器

5.5.1 锂漂移硅［Si（Li）］探测器

5.5.2 珀尔贴（Peltier）效应

5.5.3 Si-PIN探测器

5.5.4 硅漂移探测器（SDD）

5.5.5 高纯锗（Ge）探测器

5.6 探测效率及能量分辨率

5.6.1 量子计数效率

5.6.2 能量分辨率

5.7 各种常用探测器的比较

参考文献

第6章 X射线的测量

6.1 测量系统

6.1.1 概述

6.1.2 前置放大器

6.1.3 主放大器

6.1.4 脉冲高度选择器

6.1.5 脉冲高度分布曲线

6.1.6 多道脉冲分析器（MCA）

6.1.7 脉冲高度分布的自动选择

6.1.8 定标器及定时器

6.1.9 微处理机

6.2 测量方法

6.2.1 定时计数（FT）法

6.2.2 定数计时（FC）法

6.2.3 最佳定时计数（FTO）法

参考文献

第7章 波长色散X射线荧光光谱仪

7.1 概述

7.2 波长色散光谱仪的基本结构

7.2.1 X光管

7.2.2 准直器

7.2.3 辐射光路

7.2.4 分光晶体

7.2.5 平面晶体色散装置

7.2.6 弯曲晶体色散装置

7.2.7 测角仪

7.3 探测器

7.4 脉冲高度分布及脉冲高度分析器

7.5 定标计数电路

7.6 测量参数的选择

参考文献

第8章 能量色散X射线荧光光谱仪

8.1 概述

8.2 光谱仪结构

8.2.1 能量色散探测器

8.2.2 多道脉冲高度分析器

8.2.3 滤光片及其选择

8.2.4 X光管

8.3 通用型能量色散光谱仪

8.4 三维光学能量色散光谱仪

8.4.1 偏振原理

8.4.2 二次靶

8.5 谱处理技术

8.5.1 光谱数据的基本组成

8.5.2 谱处理的基本步骤

8.5.3 常用的谱处理方法

8.6 能量色散X射线荧光分析技术的特殊应用

8.6.1 全反射X射线荧光光谱分析（TXRF）

8.6.2 同步辐射X射线荧光光谱分析（SRXRF）

8.6.3 微束X射线荧光光谱分析（μ-XRF）

参考文献

第9章 基体效应

9.1 概述

9.2 基体效应

9.2.1 吸收-增强效应

9.2.2 吸收-增强效应对校准曲线的影响

9.2.3 吸收-增强效应的预测

9.3 物理-化学效应

9.3.1 颗粒度、均匀性及表面结构影响

9.3.2 样品的化学态效应

9.3.3 样品的无限厚度与分析线波长的关系

参考文献

第10章 光谱背景和谱线重叠

10.1 光谱背景

10.2 光谱背景的起源与性质

10.2.1 光谱背景的测量与校正

10.2.2 降低背景的若干方法

10.3 光谱干扰的来源

10.3.1 光谱干扰的类别

10.3.2 消除干扰的方法

10.4 灵敏度S

10.4.1 检测下限

10.4.2 定量下限

参考文献

第11章 定性与半定量分析

11.1 概述

11.2 光谱的采集与记录

11.3 谱峰的识别与定性分析

11.3.1 谱峰的平滑

11.3.2 谱峰的检索

11.3.3 谱峰的识别（匹配）

11.3.4 元素标注

11.4 半定量分析

参考文献

第12章 定量分析——实验校正法

12.1 概述

12.2 标准校准法

12.3 加入内标校准法

12.4 散射内标法

12.4.1 散射背景比例法

12.4.2 散射靶线比例法

12.5 二元比例法

12.6 基体-稀释法

12.7 薄膜法（薄试样法）

参考文献

第13章 定量分析——数学校正法

13.1 概述

13.2 数学校正法

13.2.1 经验系数法

13.2.2 理论影响系数法

13.2.3 基本参数法

13.3 X射线荧光理论强度的计算

参考文献

第14章 样品制备

14.1 概述

14.2 固体样品的制备

14.3 粉末试样的制备

14.3.1 松散粉末的制备

14.3.2 粉末压片

14.4 熔融法

14.4.1 经典熔融法

14.4.2 熔融设备

14.4.3 离心浇铸重熔技术

14.5 液体试样的制备

14.5.1 溶液法

14.5.2 离子交换法

参考文献

第15章 应用实例

15.1 痕量元素分析

15.1.1 概述

15.1.2 背景及光谱重叠的校正方法

15.1.3 基体影响的校正

15.1.4 校准曲线

15.2 宽范围氧化物分析

15.2.1 概述

15.2.2 方法要点

15.2.3 合成标准的配制

15.2.4 样品制备

15.2.5 分析测量条件

15.2.6 方法验证

15.3 油类分析

15.3.1 概述

15.3.2 方法要点

15.3.3 结论

15.4 钢铁与合金分析

15.4.1 概述

15.4.2 方法要点

15.4.3 分析测量参数

15.4.4 方法准确度的验证

15.5 痕量元素的能量色散X射线荧光光谱分析

15.5.1 概述

15.5.2 仪器及实验条件

15.5.3 方法要点

15.6 高能激发能量色散X射线荧光光谱分析

15.6.1 概述

15.6.2 方法要点

15.6.3 仪器及测量条件

15.6.4 样品制备

15.6.5 校准的准确度

参考文献

第16章 薄膜和镀层厚度的测定

16.1 概述

16.2 薄膜及样品无限厚度的定义

16.3 薄膜厚度测定的基本方法

16.3.1 薄膜（镀层）发射法

16.3.2 基底线吸收法

16.3.3 理论校准法

16.3.4 测定多层薄膜的基本参数法

16.4 应用实例

16.4.1 镀锌板镀锌层质量厚度的测定

16.4.2 彩涂板镀层厚度及铝锌含量的测定

16.4.3 镀锡板的镀锡层厚度测定

16.4.4 硅钢片绝缘层厚度测定

参考文献

第17章 分析误差与不确定度

17.1 概述

17.2 数值分析中的若干基本概念

17.2.1 真值与平均值

17.2.2 精密度和准确度

17.2.3 分析误差

17.2.4 分布函数

17.2.5 计数统计学与测量误差

17.3 误差来源及统计处理

17.3.1 强度计数的标准偏差

17.3.2 最佳计数时间的选择

17.3.3 提高精密度与准确度的基本措施

17.4 不确定度及计算

17.4.1 测量不确定度

17.4.2 统计不确定度

17.4.3 误差传递与不确定度

17.4.4 不确定度的计算

17.4.5 平均值不确定度的计算

17.4.6 统计波动

17.5 最小二乘法的统计学原理

17.5.1 线性最小二乘法拟合

17.5.2 多元线性拟合

17.5.3 多项式拟合

17.5.4 非线性最小二乘法拟合

参考文献

附录

1 分析误差允许范围

2 常用元素化合物的换算系数表

3 元素名称、符号、原子序数及相对原子质量数据表

4 K、L、M系激发电位（kV）／结合能（keV）

5 K、L、M系吸收限波长

6 K、L系主要谱线的光子能量

7 K、L、M系平均荧光产额

8 K和LⅢ吸收限陡变比（r）及（r—1）／r值

9 K系主要谱线的波长

10 L系主要谱线的波长

11 M系主要谱线的波长

12 M系主要谱线的光子能量

索引