内容简介
第1章 纳米结构的合成、加工和应用
1.1纳米技术简介
1.2纳米技术的历史
1.3什么是纳米材料
1.4纳米结构材料的性质
1.4.1物理性质
1.4.2力学性质
1.5纳米结构的热稳定性
1.6纳米技术与展望
1.7纳米结构的应用举例
1.7.1纳米电子学与分子电子学
1.7.2纳米机器人
1.7.3生物应用
1.7.4催化应用
参考文献
第2章 二维纳米结构的分类
2.1引言
2.2纳米结构的制备方法
2.2.1溶胶-凝胶法制备纳米颗粒
2.2.2化学沉积法制备纳米颗粒
2.2.3水热法制备纳米颗粒
2.2.4热解法制备纳米颗粒
2.2.5化学气相沉积法制备纳米颗粒
2.2.6固相合成法
2.2.7其他的先进方法
2.3纳米颗粒的物理和化学分析方法
2.3.1 X射线衍射
2.3.2扫描电子显微镜
2.3.3透射电子显微镜
2.3.4光学光谱测定
2.3.5紫外-可见光光谱
2.3.6荧光光谱
2.3.7傅里叶变换红外光谱测定
2.4几种生长模式
2.5生长和能量的关系
2.6过饱和对生长过程的影响
2.7薄膜生长初始阶段的定量描述
2.7.1 Volmer-Weber理论
2.7.2三维岛状生长
2.7.3二维薄膜生长
2.8生长动力学理论
2.9薄膜的取向
2.10薄膜的定向生长
2.11薄膜-衬底界面
2.11.1突变界面(单层-单层)
2.11.2化学键合界面
2.11.3分散薄膜-衬底界面
2.11.4半分散薄膜-材料界面
2.11.5力学薄膜-衬底界面
参考文献
第3章 二维纳米结构的表征及制备方法
3.1引言
3.2硅(Si)
3.3二聚体-吸附原子-堆垛层错(DAS)模型
3.4俄歇电子能谱
3.5低能电子衍射技术
3.6 X射线光透射谱
3.7物理气相沉积方法
3.7.1热蒸镀
3.7.2蒸发源
3.7.3溅射法
3.8化学气相沉积法
3.8.1引言
3.8.2 CVD的要求
3.8.3等离子辅助化学气相沉积法
3.8.4辉光放电系统
3.8.5 CVD方法的优点
3.8.6 CVD方法的局限性和缺点
3.9分子束外延
3.9.1超高真空系统
3.9.2衬底加热器和保护器
3.9.3 MBE的源腔
3.10离子束辅助薄膜沉积
3.10.1部分电离分子束外延
3.10.2注入-外延装置
3.10.3离子气相沉积技术
3.10.4双离子束技术
3.10.5离子团簇
3.11脉冲激光沉积
3.12化学浴沉积
参考文献
第4章 二维纳米结构的力学加工及性能
4.1引言
4.2多层涂层
4.3多层涂层的制备方法
4.3.1单槽法多层电沉积
4.3.2石墨烯层的机械剥离法
4.3.3薄膜合成的化学机械法
4.3.4增强力学性能的途径
4.4多层涂层的性能测试
4.4.1多层纳米结构的力学性能
4.4.2多层体系的强化理论
4.4.3立方氮化硼薄膜
4.4.4多层体系中的超模量效应
4.4.5多层涂层中的摩擦行为
4.5力学因素影响的二维纳米结构性质
4.5.1 TiN/CrN纳米多层薄膜
4.5.2压痕技术测量薄膜的力学性质
4.5.3氮化碳纳米薄膜
4.5.4 Au-TiO2纳米复合薄膜
4.5.5内应力对CNx薄膜力学性能的影响
参考文献
第5章 二维纳米结构的化学/电化学合成及性质
5.1引言
5.2历史
5.3金属纳米结构的直写
5.4共沉积理论和热力学方法
5.4.1成核作用
5.4.2生长
5.4.3 Ostwald熟化
5.4.4稳定纳米颗粒的后期生长和形成
5.5电化学势下二维纳米结构的相变
5.6沉积法纳米材料的提取
5.6.1水溶液中金属颗粒的提取
5.6.2非水溶液的还原导致的金属沉积
5.6.3水溶液中氧化物的沉积
5.6.4非水溶液中氧化物的沉积
5.6.5用于等离子阵列制备的纳米压印光刻技术
5.7总结
参考文献
第6章 二维纳米结构的物理制备方法与原理
6.1引言
6.2纳米薄膜的概念
6.3重要的物理制备方法
6.3.1受激准分子激光器
6.3.2分子束外延
6.3.3离子注入
6.3.4纳米技术中的聚焦离子束
6.3.5 FIB-SEM双束系统
6.3.6 Langmuir-Blodgett薄膜
6.3.7静电纺丝
6.4刻蚀薄膜的规格
6.5相位、长度和时间三明治
6.6介电螺旋刻纹薄膜中关联性质和结构特征的模型
6.7对入射横向波的精确耦合波分析
6.8不同合成方法的物理原理和应用
6.8.1受激准分子激光器
6.8.2分子束外延
6.8.3离子注入
6.8.4纳米技术中的聚焦离子束
6.8.5 FIB-SEM双束系统
6.8.6 Langmuir - Blodgett薄膜
6.8.7静电纺丝
参考文献